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InGaN基双波长光电探测外延晶片、制备方法和光触发布尔逻辑门器件(InGaN-Based Dual-Wavelength Photodetector Epitaxial Wafers, Preparation Method, and Photocoupled Boolean Logic Gate Devices)
交易价格:面谈
所属类型
发明专利
所属行业
H01-基本电器元件
所属国家
中国大陆
所属地域
PCT项
交易方式
完全转让
  • 专利详情
  • 专利摘要
  • 主权利要求
  • 优先权项
  • PCT项
202311438523X
2023-10-31
发明专利
中国大陆
InGaN基双波长光电探测外延晶片、制备方法和光触发布尔逻辑门器件(InGaN-Based Dual-Wavelength Photodetector Epitaxial Wafers, Preparation Method, and Photocoupled Boolean Logic Gate Devices)
华南师范大学
审查中
完全转让

本发明提供了一种InGaN基双波长光电探测外延晶片、制备方法和光触发布尔逻辑门器件,涉及半导体光电探测器技术领域,该外延晶片包括衬底、n‑GaN纳米线段、功能吸收器和透明导电层,功能吸收器包括n‑InGaN纳米线段和p‑InxGaN纳米线段,并具有轴向异质结构,用于对不同波长的光束产生相反极性的光电流。相较于现有技术,本发明为入射光波长区分提供了理想的参数,以为在功能吸收器的底部n‑InGaN纳米线段中和顶部p‑InxGaN纳米线段中产生的光电流的两个极性提供能量增益,配合电子反相器,能够实现全套光触发布尔逻辑门的功能。

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