本发明公开了一种使用中性模板剂常温合成片层中微双孔HKUST?1材料的方法。该方法包括如下步骤：一、将ZnO溶于水和N,N?二甲基甲酰胺的混合溶液中，超声；二、将三水合硝酸铜溶于水中并充分搅拌至澄清；三、将步骤一和步骤二中的溶液混合，搅拌；四、将均苯三甲酸和模板剂十六烷基溴溶于乙醇中搅拌；五、将步骤三和步骤四中的溶液混合，搅拌；六、将所得产物抽滤、干燥，得到中微双孔HKUST?1材料。本发明通过加入十六烷基溴作为模板剂，不仅操作简便，条件温和，同时也缩短了合成时间。产物呈现出片层结构，具有丰富的孔道，同时具有微孔、介孔两种孔道，不仅结构稳定，在大分子的吸附和催化方面也有较好的应用前景。