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一种阴离子模板剂合成多级孔HKUST-1材料的方法
交易价格:面谈
所属类型
发明专利
所属行业
C07-有机化学
所属国家
所属地域
PCT项
交易方式
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  • 主权利要求
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  • PCT项
CN2017103963974
2017-05-31
发明专利
一种阴离子模板剂合成多级孔HKUST-1材料的方法
华南理工大学
已授权

本发明公开了一种阴离子模板剂合成多级孔HKUST?1材料的方法。该方法将均苯三甲酸溶于乙醇中,搅拌,得溶液A;将Cu(NO)3·3H2O加入去离子水中,搅拌,然后加入模板剂,搅拌,得溶液B;溶液A和溶液B混合,继续搅拌。混合液装入不锈钢高压反应釜中,进行水热合成反应;抽滤,鼓风干燥箱中干燥;乙醇浸洗后抽滤,真空干燥,制得多级孔HKUST?1材料。本发明加入阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠(C18H29NaO3S)作为结构导向剂成功合成出多级孔HKUST?1,十二烷基苯磺酸钠(C18H29NaO3S)相对于其他模板剂毒性小,价格低,且合成的产物不仅产量高,还具有丰富集中的介孔。在大分子催化、吸附及分离等方面有着较好的应用前景。

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